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      YZD08-2C等離子清洗機操作方法

      發布時間:2021-03-17

      等離子清洗機等離子體是物質的一種存在狀態,通常物質以固態、液態、氣態三種狀態存在,但在一些特殊的情況下有第四種狀態存在,如地球大氣中電離層中的物質。等離子體狀態中存在下列物質:處于高速運動狀態的電子;處于激活狀態的中性原子、分子、原子團(自由基);離子化的原子、分子;未反應的分子、原子等,但物質在總體上仍保持電中性狀態。

      在真空腔體里,通過射頻電源在一定的壓力情況下起輝產生高能量的無序的等離子體,通過等離子體轟擊被清洗產品表面.以達到清洗目的.

      等離子清洗機

      結構

       

      等離子清洗機的結構主要分為三個大的部分組成,分別是控制單元、真空腔體以及真空泵。就以下三個部分做一個陳述:

      一、控制單元:

      目前國內使用的等離子清洗機,包括國外進口的,控制單元主要分為半自動控制、全自動控制、PC電腦控制、液晶觸摸屏控制四種方式。

      而控制單元又分為兩個大的部分:1)電源部分:主要電源頻率有三種,分別是40KHz、13.56MHz、2.45GHz,其中13.56MHz是需要電源匹配器的,而2.45GHz又稱為微波等離子,主要的功能作用,前面已經提到了,這里就不一一介紹了。2)系統控制單元:分三種,按鈕控制(半自動、全自動)、電腦控制、PLC控制(液晶觸摸屏控制)。

      二、真空腔體:

      真空腔體主要是分為兩種材質的

      1.不銹鋼真空腔體,2,石英腔體。

      三、真空泵:

      真空泵分為兩種:1,干泵 、2,油泵

      等離子清洗機

      具體應用

      等離子清洗/刻蝕機產生等離子體的裝置是在密封容器中設置兩個電極形成電場,用真空泵實現一定的真空度,隨著氣體愈來愈稀薄,分子間距及分子或離子的自由運動距離也愈來愈長,受電場作用,它們發生碰撞而形成等離子體,這些離子的活性很高,其能量足以破壞幾乎所有的化學鍵,在任何暴露的表面引起化學反應,不同氣體的等離子體具有不同的化學性能,如氧氣的等離子體具有很高的氧化性,能氧化光刻膠反應生成氣體,從而達到清洗的效果;腐蝕性氣體的等離子體具有很好的各向異性,這樣就能滿足刻蝕的需要。利用等離子處理時會發出輝光,故稱之為輝光放電處理。

      等離子體清洗的機理,主要是依靠等離子體中活性粒子的"活化作用"達到去除物體表面污漬的目的。就反應機理來看,等離子體清洗通常包括以下過程:無機氣體被激發為等離子態;氣相物質被吸附在固體表面;被吸附基團與固體表面分子反應生成產物分子;產物分子解析形成氣相;反應殘余物脫離表面。

      等離子體清洗技術的大特點是不分處理對象的基材類型,均可進行處理,對金屬、半導體、氧化物和大多數高分子材料,如聚丙烯、聚脂、聚酰亞胺、聚氯乙烷、環氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地處理,并可實現整體和局部以及復雜結構的清洗。

       

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